真空电镀：VacuumMetalizing，铝合金电镀价格，即是物理气相沉积（PVD），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。早运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，深圳铝合金电镀，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。
工艺特点
工艺成本
模具费用（无）
单件费用（中）
批量生产（中）
典型应用
反射涂层；
消费电子产品和隔热板的表面处理；
产量范围单件到大批量皆可
质量优势适合高质量，高亮和产品表面保护层
生产效率速度慢，具体取决于设备内靶材存放量，通常为6小时/周期（包括喷漆工序）
铝合金电镀工艺详解
1导电氧化（铬酸盐转化膜）——用于既要防护又要导电的场合。
2 化学氧化——用于一般性防护，加工容易，成本低。
3涂有机防护层（涂漆、喷塑等）——用于设备的外部防护、装饰，通常都在氧化的基础上进行。
其他还有在上表面处理之前先进行准备性处理，如抛光（机械、电化学、化学法）、喷砂等，铝合金彩色电镀，可强化上述表面处理的功能。
电镀工艺的分类与流程说明
真空ip电镀流程说明。
(1)浸酸。
①作用与目的:除去板面氧化物，活化板面，一般浓度在5%～10%左右，主要是防止水分带入造成槽液硫酸含量不稳定。
②使用C.P级硫酸，酸浸时间不宜太长，防止板面氧化;在使用一段时间后，酸液出现浑浊或铜含量太高时应及时更换，防止污染电镀铜缸和板件表面。
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