半导体器件用超声波清洗机清洗原理：
半导体器件用超声波清洗机通过换能器，将功率超声频源的声能转换成机械振动，通过清洗槽壁将超声波辐射到槽子中的清洗液。由于受到超声波的辐射，使槽内液体中的微气泡能够在声波的作用下从而保持振动。破坏污物与清洗件表面的吸附，引起污物层的疲劳破坏而被驳离，气体型气泡的振动对固体表面进行擦洗。
半导体器件用超声波清洗机技术参数：
01、电 源：220V±10% 50Hz
02、超声频率：40KHz
03、超声功率：180W 功率可调(40-100)%
04、半导体器件用超声波清洗机加热功率：200W
05、温度可调：(20-100)℃
06、时间可调：(1-99)min定时/连续工作
07、半导体器件用超声波清洗机清洗槽尺寸及容量：（L300×W150×H100）mm(容量4.5L)
08、清洗器外形尺寸：（L325×W175×H235）mm
09、外壳材质：SUS304
10、网架：塑料注塑网架
11、半导体器件用超声波清洗机降音盖：优质304不锈钢一次性冲压拉伸成形
12、仪器核心采用智能电路控制与转换
13、超声发生器设计为它激方式
14、半导体器件用超声波清洗机选用高Q值换能器
15、数字显示、储存相关的感应与工作参数
16、数显产品工作时间,实现合理三包，保修一年，终身维修
17、半导体器件用超声波清洗机数显记忆和设定超声工作时间和超声功率
18、数显记忆和设定槽内加热温度
半导体器件用超声波清洗机性能特点：
1.能快速、彻底清除工件表面上的各种污垢。
2.能清洗带有空腔、沟槽等形状复杂的精密零件。
3.半导体器件用超声波清洗机对工件表面无损。
4.可采用各种清洗剂。
5.在室温或适当加温即可进行清洗。
6.半导体器件用超声波清洗机整机一体化结构便于移动。
7.节省溶剂、清洗纸、能源、工作场地和人工等。
半导体器件用超声波清洗机产品应用：
实验材料、实验器械：如吸管和器皿的清洗；层析、HPLC前的脱气处理。
置换、萃取等
化学、生物行业：试验玻璃器皿的清洗、除垢，实验中脱气、混匀、分散、细胞粉碎、提取、乳化、消泡、
半导体器件用超声波清洗机医疗行业：医疗器械、医用材料的消毒之前的全面清洗；医疗试验器皿的清洗等。
中草药、烟草、农药、瘦肉精、地沟油等有效成分的萃取。
仪器仪表行业：精密零件的高清洁度装配前的清洗等。
半导体器件用超声波清洗机电子行业：印刷线路板除松香、焊斑；高压触点等机械电子零件
半导体行业：半导体晶片的高度洁度清洗
钟表、首饰、手表、贵重金属、眼镜行业：清除油垢、灰尘、氧化层、抛光膏等
光学行业：光学器件的除油、出汗、清灰等
纺织印染行业：清洗纺织锭子、喷丝板等
石油化工行业：金属滤网的清洗疏通、化工容器、交换器的清洗等
半导体器件用超声波清洗机适用于机械、电子、塑料、环保、医药、包装、、航天航空、船舶、汽车等行业的制造和维修清洗