鹏城半导体 PECVD设备 PC-006

2023-10-25 16:41 113.87.81.155 2次
发布企业
鹏城半导体技术(深圳)有限公司商铺
认证
资质核验:
已通过营业执照认证
入驻顺企:
4
主体名称:
鹏城半导体技术(深圳)有限公司
组织机构代码:
91440300MA5H0RXA7M
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关键词
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深圳市南山区桃源街道福光社区留仙大道3370号南山智园崇文园区1号楼
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产品详细介绍

PECVD设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长;采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术,是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。

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设备用途和功能特点


1、该设备是高真空单频或双频等离子增强化学气相沉积PECVD薄膜设备,主要用于制备氮化硅和氧化硅薄膜。


2、设备保护功能强,具备真空系统检测与保护、水压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护。


3、配置尾气处理装置。


设备安全性设计


1、电力系统的检测与保护


2、设置真空检测与报警保护功能


3、温度检测与报警保护


4、冷却循环水系统的压力检测和流量检测与报警保护


设备技术指标

 样片尺寸 ≤φ6英寸(或3片2英寸)

 样片加热台加热温度 室温~ 600℃±0.1℃

 真空室极限真空 ≤7×10^-5Pa

 工作背景真空 ≤8×10^-4Pa

 设备总体漏放率 停泵12小时后,真空度≤10Pa

 样品、电极间距 5mm ~ 50mm在线可调

 工作控制压强 10Pa ~ 1500Pa

 气体控制回路 根据工艺要求配置

 单频电源的频率 13.56MHz

 双频电源的频率 13.56MHz/400KHz


工作条件

 供电 三相五线制 AC 380V

 工作环境温度 10℃~ 40℃

 气体阀门供气压力 0.5MPa ~ 0.7MPa

 质量流量控制器输入压力 0.05MPa ~ 0.2MPa

 冷却水循环量 0.6m3/h 水温18℃~ 25℃

 设备总功率 7kW

 设备占地面积 2.0m ~ 2.0m


PECVD及太阳能薄膜电池设备

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所属分类:中国机械设备网 / 真空镀膜加工
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