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同轴光光源用一段时间后，发生图像自动变亮现象
原因分析或解决办法
影响图片亮度因素有：
光源控制器；视觉程序调用相机参数变亮；同轴光表面反光镜和防尘片脏污；
解决办法：
1.将光源控制器（模拟）旋钮调节至*大，过一段时间后仍然变亮，排除原因；
2.查看视觉程序调用的参数，变亮前和变亮后一样，排除原因；
3.同轴光分光镜或防尘片表面脏污引起，变亮后，用无尘布擦去光源表面的脏污，变暗，确定原因。
同轴光为什么叫同轴光：
光源通过漫射板发散打到半透半反射分光片上，该分光片将光反射到物体上，再由物体反射到镜头中。由于物体反射后的光与相机处于同一个轴线上，因此，此种方式的光源被称之为同轴光。
分光镜：
分光片在表面上镀了一层特殊的膜（多层介电膜真空蒸镀），使得入射光可以反射一半透射一半，从而把一束光分为反射的一束，和透射的一束，形成两束光。
CNC车间机床加工，存在大量粉尘，当分光镜上表面布上灰尘之后，反射到产品表面的光束变多，导致反射到镜头的光束增多造成图像变亮。
防尘片：
遮挡来自空气中的脏污粉尘，避免粉尘掉落到分光镜上引起发光不均匀情况；
1.反光镜的工艺：
多层介电膜通过真空蒸镀形成
介电膜：用溅射法在基片上沉积的以金属钽为基的介电薄膜材料。
真空蒸镀：
蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜→薄膜原子重构或产生化学键合。将基片放入真空室内，以电阻、电子束、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，气化为具有一定能量（0.1～0.3eV）的粒子（原子、分子或原子团）。气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片，到达基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并发生表面扩散，沉积原子之间产生二维碰撞，形成簇团，有的可能在表面短时停留后又蒸发。粒子簇团不断地与扩散粒子相碰撞，或吸附单粒子，或放出单粒子。此过程反复进行，当聚集的粒子数超过某一临界值时就变为稳定的核，再继续吸附扩散粒子而逐步长大，*终通过相邻稳定核的接触、合并，形成连续薄膜。
