公明工厂高价回收进口连接器 进口全系列模块回收
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工作原理
光刻机的工作原理是利用光学的聚焦和投影技术，将芯片设计图案通过光源、掩膜和透镜系统高度**地转移到硅片表面。这个过程可以分为：准备掩膜、显影光刻胶、曝光和显影等几个步骤。
具体来说，当光源照射到掩膜上时，掩膜会选择性地阻挡或透过光线，形成所需的芯片图案。透镜系统将光线聚焦到硅片上，图案通过光刻胶传递到硅片表面。进行显影处理，将未曝光的光刻胶去除，留下所需的芯片图案。