英国Ossila显微镜载玻片紫外线臭氧清洁机L2002A3-UK
Ossila紫外线臭氧清洁机能够在几分钟内去除基材和样品表面的污染物，提供超清洁表面。使用高功率紫外线光源产生臭氧并分解有机表面污染物，该程序可以产生接近原子级清洁的表面，而不会对样品造成任何损坏。由表面污染物产生的挥发性化合物会迅速蒸发，使样品为下一部分实验做好准备。
紫外线臭氧清洁是如何工作的？
紫外线臭氧清洁依赖于高强度紫外线光源的使用，该光源用两种特定波长的光照射待清洁的表面。通常使用低压汞蒸气放电灯，如Ossila紫外线臭氧清洁机中的合成石英紫外线格栅灯，其在184nm和254nm处具有两个主要发射峰。在照射时，存在于空气中的分子氧通过长度低于200nm的辐射而离解。这导致形成两个氧自由基。这些自由基继续与进一步的分子氧反应，形成臭氧分子。
同时，使用254nm的光来激发存在于样品表面上的有机物种。这个过程增加了污染物与臭氧的反应性。反应后，材料从表面上被清除。
尽管单元本身占地面积很小，但照明面积很大。托盘可容纳直径高达153mm（6英寸）的晶片，这允许清洁各种样品，包括：
显微镜载玻片
6英寸晶圆
AFMjianduan
划片基质
培养皿
建议的Zui大基板厚度为12mm
技术规范：
紫外线规格、灯具规格
灯型：低压汞放电灯
灯具尺寸：150 mm x 15 mm（长x直径）
灯具数量：4
放电峰值：185nm和254nm
灯寿命T80寿命2000小时
样品辐照度规范
样品在185nm处的紫外线强度为：15mW·cm-2
清洁区域直径：153 mm（6英寸）
曝光时间：1秒至60分钟；数字控制
