光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。
光刻机的成像质量直接影响光刻机的CD均匀性、套刻精度、焦深、曝光宽容度等关键性能指标。光刻机成像质量的现场检测技术很重要。中科检测可提供光刻机质量鉴定服务。
光刻机质量鉴定分析内容
光刻机质量鉴定可以从以下几个方面进行分析：
1、分辨率限制：
光刻机的分辨率决定了其可以制造的Zui小图案尺寸。制造更小的图案需要更高的分辨率，随着分辨率的提高，光刻机的制造难度也相应增加。
2、光学系统的精度：
光学系统是光刻机中Zui重要的组成部分之一，其精度决定了图案的精度和制造能力。光学系统需要在非常高的精度下制造和安装，以确保其能够实现所需的分辨率和图案精度。
3、光刻胶的特性：
光刻胶是光刻机中另一个非常重要的组成部分，其特性对制造过程和结果都有很大的影响。光刻胶需要具备一定的分辨率、灵敏度和粘度等特性，也需要在制造过程中保持稳定和可靠。
4、制造复杂性：
制造光刻机需要多个不同领域的专业知识，包括光学、机械、电子、材料等方面。制造光刻机需要投入大量的研发和制造成本，也需要高度的技术创新和发展，以满足不断增长的制造需求。
光刻机质量鉴定标准
SJ 21254-2018 双面光刻机工艺验证方法
GB/T 34177-2017 光刻用石英玻璃晶圆
SJ 21497-2018 声表面波器件光刻工艺技术要求
SJ 21530-2018 多层共烧陶瓷 表层光刻工艺技术要求
SJ 21171-2016 MEMS惯性器件光刻工艺技术要求
GB/T 29844-2013用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
