2025中国（深圳）国际半导体展览会
China (Shenzhen) int'l Circuit board & Electronic assemblyShow2025
时间：2025年04月9-11日
地点：深圳会展中心(福田)
详询主办方
展会介绍：
半导体设备是支撑电子行业发展的基石。近年来，国内多家半导体设备企业在关键领域取得了进展，材料零部件的企业也呈现出快速增长的趋势。中国半导体产业结构日渐优化,产业链逐步完善,形成相互促进、共同发展的局面。瞄准未来，还需加强产业链配套能力,制定出科学合理的发展战略。
中国在全球半导体市场中占据重要地位，也是全球大的设备市场。在整个半导体设备产业链中，目前中国厂商开始崭露头角，发展势头良好，市场规模逐年增加。”为了保障半导体产业链供应链的畅通与稳定发展由中国电子器材有限公司及深圳市平板显示行业协会举办”2025深圳国际半导体制造设备材料与核心部件展览会”定于2025年04月9-11日同期与“2025第十三届中国电子信息博览会”在深圳会展中心(福田)举办，本次展览会以“创“芯”领航，智造未来”为主题，吸引了众多国内外半导体及核心部件厂商、专家学者以及业界精英齐聚一堂，共同探讨半导体产业的发展趋势和未来前景。除了设备展示外，本次展览会还设置了多个论坛和研讨会，邀请了众多和学者就半导体产业的发展趋势、技术创新、市场应用等方面进行深入探讨。与会者们纷纷表示，随着5G、物联网、人工智能等技术的快速发展，半导体产业正迎来前所未有的发展机遇，也面临着诸多挑战和困难。加强技术创新和人才培养，推动产业转型升级，成为了半导体产业发展的重要方向。
展品范围：
半导体专用设备&部件展区：减薄机、单品炉、研磨机、热处理设备、光刻机、刻蚀机、离子注入设备、CVD/PVD设备、清洗设备、切割机、装片机、键合机、测试机、分选机、探针台及零部件等。
设计、芯片、晶圆制造与封装展区：集成电路设计、晶圆制造、SiP先进封装技术.功率器件封测、MEMS封装技术.硅晶圆及IC封装载板、封装基板与应用制造与封测、EDA软件、MCU微控制器、封装基板半导体材料与设备及零部件。
新型显示展区：OLED、AMOL .ED、Mini/Micro LED、硅基显示、柔性显示技术等。
化合物半导体展区：氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)、氧化锌(ZnO)金刚石、晶圆、衬底与外延、功率器件、IGBT封装材料、射频器件及加工设备等。
先进封装技术展区：半导体主控与计算类芯片、功率半导体IGBT与MOSFET.车规级SiC模块、储能电源及传感器、汽车电子微组装及功率器件、封装测试设备、自动化设备、仪器及零部件。
先进材料展区：硅片及硅基材料、光掩模板、电子气体、光刻胶及其配套试剂、CMP抛光材料、靶材、封装基板、引线框架、键合丝、陶瓷基板、芯片粘合材料等。
- 应用场景：不同的刻蚀技术适用于不同的材料和工艺要求。例如，干法刻蚀在需要高深宽比和精细图案的半导体工艺中更为常用，而湿法刻蚀可能用于金属刻蚀艺术或某些宏观尺度的图案制作。
| 特性/类型 | 物理刻蚀 | 化学刻蚀 | 干法刻蚀 | 湿法刻蚀 |
| 基本机制 | 物理作用（如溅射） | 化学反应（如溶解） | 物理和/或化学作用（使用等离子体） | 化学反应（使用化学溶液） |
| 各向异性/同性 | 通常是各向异性 | 可以是各向同性或各向异性，取决于材料和化学剂 | 通常是各向异性 | 通常是各向同性 |
| 介质 | 高能粒子（如离子） | 化学溶液（如酸、碱） | 气体和等离子体 | 液态化学溶液 |
| 应用场景 | 半导体薄膜去除、光罩制作 | 金属加工、某些半导体图案转移 | 深孔、槽和微结构制作 | 金属刻蚀艺术、宏观图案制作 |
| 选择性 | 较低（对所有材料大致相同） | 较高（对不同材料有不同的刻蚀速率） | 取决于化学剂和物理条件 | 取决于化学剂 |
| 刻蚀速率 | 相对较低 | 可高可低，取决于化学剂 | 通常较高，可精细控制 | 相对较低 |
| 精度和复杂性 | 可实现高精度和陡峭侧壁 | 精度较低，可能产生侧向凹槽（undercut） | 可实现高深宽比和复杂图案 | 精度较低，图案简单 |
| 表面损伤 | 可能产生表面损伤 | 通常较低，取决于化学剂 | 较低，但需控制离子轰击 | 可能较低，取决于化学剂 |
| 环境影响 | 较少化学废物 | 可能产生化学废物 | 较少化学废物，但需控制气体排放 | 可能产生较多化学废物 |