江苏收购隔离器芯片 传感器回收传感器收购

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二氧化硅波导工艺中的几个关键点：

1)材料生长和退火硬化工艺，要使每层材料的厚度和折射率均匀且准确，以达到设计的波导结构参数，尽量减少材料内部的残留应力，以降低波导的双折射效应；

2)RIE刻蚀工艺，要得到陡直且光滑的波导侧壁，以降低波导的散射损耗；

3)RIE刻蚀工艺总会存在Undercut，要控制Undercut量的稳定性，作为布版设计时的补偿依据。

玻璃光波导的制作工艺分为五步：

1)在玻璃基片上溅射一层铝，作为离子交换时的掩模层；

2)进行光刻，将需要的波导图形用光刻胶保护起来；

3)采用化学腐蚀，将波导上部的铝膜去掉；

4)将做好掩模的玻璃基片放入含Ag+－Na+离子的混合溶液中，在适当的温度下进行离子交换，Ag+离子提升折射率，得到沟道型光波导；

5)对沟道型光波导施以电场，将Ag+离子驱向玻璃基片深处，得到掩埋型玻璃光波导。

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