氧化锆陶瓷等离子清洗机制造厂家

真空式等离子处理系统CRF-VPO-2L-S

名称（Name）

真空式等离子处理系统

型号（Model）

CRF-VPO-2L-S

控制系统（Control system）

PLC+触摸屏

电源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz, 3kw

中频电源功率（RF Power）

1000W/40KHz

容量（Volume ）

10L(Option)

层数（Electrode of plies ）

2(Option)

腔体规格（Area）

220(W)*230(D)*230(H)

气体通道（Gas）

两路工作气体可选：Ar、N2、CF4、O2

产品概述

设备参数

产品特点

超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，精准的控制设备运行；

可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求；保养维修成本低，便于客户成本控制；

高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。

应用范围

真空等离子清洗机适用于印制线路板行业，半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业：高频板表面活化，多层板表面清洁、去钻污、软板、软硬结合板表面清洁、去钻污，软板补强前活化。半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗；硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。