全自动晶圆离心清洗机采用真空吸附式清洗盘，晶元夹具的取放更安全、方便；采用二流体清洗，清洗精度高，对产品零损伤，纯水消耗量极小；旋转式喷杆，避免二次污染产品；配备静电消除装置、腔壁加热装置，辅助清洗达到佳效果；配备2级空气过滤系统，压缩空气符合ISO8573、1标准。
全自动晶圆离心清洗机特点：
可调变速离心式
全自动製程人机界面控制
透明防爆门，作业安全确保
全自动晶圆离心清洗机镜面不锈钢体封闭结构
全系统仪表监测，符合ISO作业
超大型Wash-Tank增加效率
全自动晶圆离心清洗机前置式作业，无二次污染
平方公尺设备空间，调配方便
低噪音，无污染-无尘室专用设计
纯水自动加压过滤
全自动晶圆离心清洗机可更换清洗吸盘，可使用4-12英寸的清洗吸盘；
操作程序可按作业需求编写调整，设备运行流程、清洗时间及各项参数可自行编制；
运行状态及参数在线实时监控，自动门配有安全光栅，保证操作安全；
采用真空吸附式清洗盘，晶元夹具的取放更安全、方便；
全自动晶圆离心清洗机摆臂式清洗，清洗范围可编制，适用范围广、无清洗盲区、无二次污染，清洗效果更佳；
清洗室全密封，且配有自动挡水圈，有效防止二次污染；
高速离心设计，转速可调节100-2000R/Min；
配备独特的静电消除装置，辅助清洗达到佳效果，可选择使用氮气；
配有大面积透明观察窗；
全自动晶圆离心清洗机缩减宽度的省空间设计，结构紧凑，占用空间小；
整机镜面不锈钢机身，能耐酸碱，对工作环境无污染，镜面机壳易于保养。
产品表面粉尘，杂质专用清洗机器；
镜面锈钢一体化封闭机身，对工作环境无污染，适合无尘车间使用要求；
可更换清洗盘清洗多种产品，清洗盘按产品定做；
全自动晶圆离心清洗机PLC自动控制，操作方便快捷；
透明防爆前门，安全作业，便于观察；
全系统仪表显示，随时监控清洗状况；
采用二流体清洗，清洗精度高，对产品零损伤，纯水消耗量极小；
旋转式喷杆，避免二次污染产品；
全自动晶圆离心清洗机配备静电消除装置、腔壁加热装置，辅助清洗达到佳效果；
配备2级空气过滤系统，压缩空气符合ISO8573、1标准；
机身紧凑，占用面积小；
完全使用超纯水清洗，符合RoHS标准。
全自动晶圆离心清洗机参数：
项目 | 参数 |
外观尺寸 | 1000(L) ×1000(W) ×1680(H)mm |
治具规格 | 12 寸或以下（采用标准或定制化陶瓷吸盘） |
清洗精度 | 清洗 0.5μm 及以上的 Particle颗粒 |
清洗方式 | 二流体清洗+毛刷（可选） |
干燥方式 | 高速离心脱水 |
标准固定方式 | 微孔陶瓷吸盘（可根据产品定制） |
纯水连接口径 | ø12mm 外径软管或 PT 1/2″内螺纹 |
纯水供应 | 压力＞0.3Mpa；流量＞10L/Min；电阻率＞17MΩ |
纯水消耗量 | 0-8L/Min，正常工作耗水量＜120L/h |
排水出口径 | PT 1″内螺纹 |
气源入口径 | ø10mm 外径软管 或 PT1/2″内螺纹 |
气源供应 | 0.4-0.7Mpa；过滤精度：0.01μm；含油量：无油；含水量：压力露点-40℃ |
气体消耗量 | 10-40L/Min |
排风口口径 | 4″(直径 115)×2（抽风风速大于3M/Sec） |
排风量 | 400-700m³/H |
电源供应 | AC380V；50Hz |
总功率 | 2.2Kw |
耗电量 | 清洗时 2.2w;待机时：1Kw |
传动马力 | 3HP |
离心转速 | 可设 80-1800R/Min |
环境过滤方式 | 过滤精度 0.5μm ;过滤效率 99.99% |
空气过滤方式 | 0.01μm×1（精） |
清洗压力 | 5-10Kgf/cm³ |
二流体雾径 | 小于 30μm |
机器净重 | 约 160KG |
全自动晶圆离心清洗机可以根据不同的制程定制不同的晶圆清洗设备以及清洗制程的自动化设备升级。
