检测项目
膜厚测试
检测目的：
检测镀层、膜层的厚度
测试范围：
金属镀层、氧化物层、涂层、电镀层等厚度
膜厚试验项目介绍
膜厚试验是应用于在线膜厚测量，测氧化物，SiNx，感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，可通过计算得到薄膜的厚度，光干涉法是一种无损，jingque且快速的光学薄膜厚度测量技术，薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。
膜厚试验方法
磁感应测量膜厚试验方法：
采用磁感应原理时，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定覆层厚度。也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度。覆层越厚，则磁阻越大，磁通越小。利用磁感应原理的测厚仪，原则上可以有导磁基体上的非导磁覆层厚度。一般要求基材导磁率在500以上。如果覆层材料也有磁性，则要求与基材的导磁率之差足够大(如钢上镀镍)。当软芯上绕着线圈的测头放在被测样本上时，仪器自动输出测试电流或测试信号。早期的产品采用指针式表头，测量感应电动势的大小，仪器将该信号放大后来指示覆层厚度。电路设计引入稳频、锁相、温度补偿等地新技术，利用磁阻来调制测量信号。还采用专利设计的集成电路，引入微机，使测量精度和重现性有了大幅度的提高(几乎达一个数量级)。可应用来jingque测量钢铁表面的油漆层，瓷、搪瓷防护层，塑料、橡胶覆层，包括镍铬在内的各种有色金属电镀层，以及化工石油待业的各种防腐涂层。
电涡流测量膜厚试验方法：
高频交流信号在测头线圈中产生电磁场，测头靠近导体时，就在其中形成涡流。测头离导电基体愈近，则涡流愈大，反射阻抗也愈大。这个反馈作用量表征了测头与导电基体之间距离的大小，也就是导电基体上非导电覆层厚度的大小。由于这类测头专门测量非铁磁金属基材上的覆层厚度，通常称之为非磁性测头。非磁性测头采用高频材料做线圈铁芯，例如铂镍合金或其它新材料。与磁感应原理比较，主要区别是测头不同，信号的频率不同，信号的大小、标度关系不同。与磁感应测厚仪一样，涡流测厚仪也达到了分辨率0.1um，允许误差1%，量程10mm的高水平。采用电涡流原理的测厚仪，原则上对所有导电体上的非导电体覆层均可测量，如航天航空器表面、车辆、家电、铝合金门窗及其它铝制品表面的漆，塑料涂层及阳极氧化膜。覆层材料有一定的导电性，通过校准同样也可测量，但要求两者的导电率之比至少相差3-5倍(如铜上镀铬)。钢铁基体亦为导电体，但这类任务还是采用磁性原理测量较为合适。
萤光X射线装置(XRF)测量膜厚试验方法：
X射线的能量穿过金属镀层的金属元素其电子会反射其稳定的能量波谱。通过这样的原理，我们设计出：膜厚测试仪也可称为膜厚测量仪，又称金属涂镀层厚度测量仪，其不同之处为其即是薄膜厚度测试仪，也是薄膜表层金属元素分析仪。
X射线衍射装置(XRD)测量膜厚试验方法：
简单地说萤光X射线装置(XRF)和X射线衍射装置(XRD)有何不同,萤光X射线装置(XRF)能得到某物质中的元素信息(物质构成,组成和镀层厚度),X射线衍射装置(XRD)能得到某物质中的结晶信息。