聚焦光刻胶 2025深圳国际先进半导体材料展览会_测试_展位_

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2025中国（深圳）国际半导体展览会

China (Shenzhen) int'l Circuit board & Electronic assembly Show2025

展会时间：2025年4月9日-11日

论坛时间：2025年4月9日-11日

展会地点：深圳国际博览中心

2025深圳国际半导体制造设备材料与核心部件展览会，这一科技盛宴，将于璀璨春日的2025年4月9日至11日，在深圳这座充满活力的创新之都的心脏地带——深圳会展中心（福田）隆重拉开帷幕。这不仅是一场关于半导体产业科技与未来趋势的汇聚，更是一次全球智慧与创新力量的璀璨碰撞。

届时，来自世界各地的行业巨头、先锋企业、科研机构及精英学者将共襄盛举，携其新研发的半导体制造设备、高精尖材料以及核心部件精彩亮相。展览会将通过宏大的展区布局、精细的展品分类、以及前沿的技术论坛，全方位、多角度地展现半导体制造业的新成果与未来蓝图。

在这里，每一台精密的设备都闪耀着智慧的光芒，每一种创新材料都蕴含着科技的突破，每一个核心部件都承载着推动行业前行的力量。参展商们将通过生动的演示、深入的交流，共同探索半导体技术的无限可能，携手绘制半导体产业的新篇章。

展会还将设立多个特色专区，如智能制造体验区、创新成果展示区等，让参会者能够近距离感受半导体技术的魅力，亲身体验科技进步带来的便捷与高效。这不仅是一个展示的平台，更是一个交流的舞台，一个促进合作、共谋发展的契机。

2025深圳国际半导体制造设备材料与核心部件展览会，期待您的莅临，共同见证半导体产业的未来！

据东湖国家自主创新示范区官网昨日（10月15日）消息，近日武汉太紫微光电科技有限公司（下称“太紫微公司”）推出的T150A-光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计。

该产品“对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于国外同系列产品UV1610，T150A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异”。