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2025中国（深圳）国际半导体展览会

China (Shenzhen) int'l Circuitboard & Electronic assembly Show 2025

展会时间：2025年4月9日-11日

论坛时间：2025年4月9日-11日

展会地点：深圳国际博览中心

2025深圳国际半导体制造设备材料与核心部件展览会，这一科技盛宴，将于璀璨春日的2025年4月9日至11日，在深圳这座充满活力的创新之都的心脏地带——深圳会展中心（福田）隆重拉开帷幕。这不仅是一场关于半导体产业科技与未来趋势的汇聚，更是一次全球智慧与创新力量的璀璨碰撞。

届时，来自世界各地的行业巨头、先锋企业、科研机构及精英学者将共襄盛举，携其新研发的半导体制造设备、高精尖材料以及核心部件精彩亮相。展览会将通过宏大的展区布局、精细的展品分类、以及前沿的技术论坛，全方位、多角度地展现半导体制造业的新成果与未来蓝图。

在这里，每一台精密的设备都闪耀着智慧的光芒，每一种创新材料都蕴含着科技的突破，每一个核心部件都承载着推动行业前行的力量。参展商们将通过生动的演示、深入的交流，共同探索半导体技术的无限可能，携手绘制半导体产业的新篇章。

展会还将设立多个特色专区，如智能制造体验区、创新成果展示区等，让参会者能够近距离感受半导体技术的魅力，亲身体验科技进步带来的便捷与高效。这不仅是一个展示的平台，更是一个交流的舞台，一个促进合作、共谋发展的契机。

2025深圳国际半导体制造设备材料与核心部件展览会，期待您的莅临，共同见证半导体产业的未来！

上海新阳成立于 2004年，公司多年发展已形成两大类业务模块：半导体材料：覆盖电镀、清洗、光刻、研磨四大工艺化学材料产品；主要产品包括电镀液及添加剂、清洗液、光刻胶、封装材料及配套设备产品。公司电镀和清洗两大核心技术已达到国内lingxian水平，电镀液及添加剂产品已覆盖90-14nm 技术节点；干法蚀刻后清洗液已经实现14nm 以上技术节点全覆盖，20-14nm电镀液及添加剂已实现销售；用于存储器芯片的原创新产品氮化硅蚀刻液打破国外垄断，并与客户共同开发、验证更高层级的产品系列；用于铜抛光后清洗液（PCMP）产品开发完成，已进入到客户端；公司布局开发的研磨液（CMP）也已有成熟产品成功进入客户端实现销售。环保功能性氟碳涂料：由子公司江苏考普乐生产，公司开发的喷涂型PVDF氟碳涂料guoneishichang占有率在15%左右，位居全国前三。

在光刻胶领域，2022 年公司自主研发的 KrF光刻胶产品通过认证客户不断增加，已在国内主流晶圆制造厂商处实现供货；ArF、ArF-i光刻胶方面研发进展顺利，已经形成两个系列试验产品，样品已进入客户端进行测试；公司已自购 ASML1900、1400光刻机用于光刻胶产品测试。拥有完整自主可控知识产权的光刻胶产品与应用即将形成公司的第三大核心技术，未来发展前景可期。2024上半年公司实现营收 6.61 亿元，同比+19.78%；归母净利润0.59亿元，同比-32.14%；扣非归母净利润 0.80亿元，同比+51.77%。其中半导体业务板块实现营业收入 4.63亿元，同比+36.44%，并首次实现单月销售额破亿元。公司集成电路关键工艺材料系列产品收入快速增长，其中晶圆制造用关键工艺材料实现同比增长超50%，晶圆制造用电镀液及添加剂系列产品市场份额继续保持快速增长，集成电路制造用清洗系列产品客户端认证顺利，取得客户订单数量持续增加。

公司布局规划的电镀液及添加剂、清洗液、刻蚀液、光刻胶、研磨液等化学品材料产能不断加强，上海松江厂区年产能1.9万吨扩充目标已完成，合肥第二生产基地一期 1.7 万吨产能已进入试生产阶段。合肥二期规划 5.3万吨年产能，各类手续正在办理中。